2024半導體技術及應用創新展

您的當前位置：首頁 >> 新聞中心 >> 公司新聞

2024半導體技術及應用創新展

發布日期：2024-07-15 作者：人事行政部點擊：

7月3日至5日上海新國際博覽中心于近日舉辦了一場半導體技術及應用創新展，吸引了眾多業內人士前來參觀交流。展會以CVD爐和裂解爐為主要展品，展示了半導體技術領域的最新發展和應用創新。展會不僅展示了半導體技術領域的最新技術，還為行業內的企業提供了交流、合作和創新的機會。

我公司展示的CVD氣相沉積爐和高溫石墨化爐受到行業關注，高溫石墨化爐用于碳碳復合材料、石墨軟氈、石墨硬氈的高溫石墨化及純化處理或其他產品的高溫燒結處理。高溫純化爐是將石墨制品、石墨軟氈、石墨硬氈或SiC粉體等通過高溫焙燒和工藝氣體定向流動，經過物理擴散、化學反應使雜質元素從基體中排出，形成灰分含量低（5ppmw）、金屬含量降到PPB數量級，從而達到半導體晶體生長對石墨品質（或粉體原料）要求的工藝過程。采用恒進專屬超高溫、大電流引電技術，能在2400℃條件下長時間穩定使用。

CVD氣相沉積爐用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術。把一種或多種蒸汽源原子或分子引入腔室中，在外部能量作用下發生化學反應并在襯底表面形成需要的薄膜。由于CVD技術具有成膜范圍廣、重現性好等優點，被廣泛用于多種不同形態的成膜。主要應用集成電路、半導體照明、微機電系統、功率半導體、化合物半導體、新能源光伏等領域用于滿足CVD-TaC/SiC生長過程中的環境要求?？刂葡到y由PLC控制，控制準確，自動化程度高，可實現全自動/手動無擾動切換，操作簡單可靠、節省能源、無環境污染。

展會的舉辦對于推動半導體技術領域的發展起到了積極的促進作用。展示了國內半導體技術企業的技術實力和應用創新能力，加強了企業之間的技術交流和合作，有助于提升整個半導體技術領域的水平和競爭力。

總之，本次半導體技術及應用創新展是一次非常成功的展會，它匯聚了業內的領軍企業和專業人士，展示了最新的技術和應用創新。我們期望這樣的展會能夠更多地舉辦，為半導體技術的發展添磚加瓦。